9月17日，記者在秦創(chuàng)原集成電路加速器(西安電子谷核心區(qū))項目現(xiàn)場看到，兩棟高度分別為147.4米和94米的大樓拔地而起，成為高新絲路科學城新的地標性建筑。
“經(jīng)過兩年的努力，位于西安高新絲路科學城核心地帶的地標性超高層項目，主體工程已基本完工，目前正在進行樓宇外圍綠化等收尾工作，有望在國慶節(jié)前夕竣工交付?！蔽靼步üさ谝唤ㄖ瘓F有限公司秦創(chuàng)原集成電路加速器(西安電子谷核心區(qū))J區(qū)項目負責人劉嘉俊介紹，由西安電子谷總部項目占地61.06畝，總建筑面積161282.94平方米。該項目地下有三層，地上建筑包括1#塔樓地上33層，建筑高度147.4米；2#塔樓地上21層，高94米。其中，1#塔樓為建筑群中最高樓宇，將作為電子谷核心區(qū)總部大樓使用。
記者了解到，秦創(chuàng)原集成電路加速器(西安電子谷核心區(qū))自開工起，相繼被列為省市重點項目。2022年，被列入西安高新區(qū)重點建設(shè)項目計劃，在精選的19個“科創(chuàng)高新”重點項目清單中名列前茅。
秦創(chuàng)原集成電路加速器(西安電子谷核心區(qū))的成功建設(shè)，標志著一個世界一流、以集成電路產(chǎn)業(yè)為特色的科技基礎(chǔ)設(shè)施集群即將在西安高新區(qū)絲路科學城片區(qū)閃亮登場。
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